一、应用领域
用于单晶硅、多晶硅、蓝宝石、液晶玻璃、镜头等抛光。
二、产品特点
1．采用严格的粒径控制工艺，具有纯度高、粒径均匀、易清洗、无橘皮、无雾化现象、抛光速率高、损伤层小等优点。
2．可直接稀释使用，对抛光设备无腐蚀。
三、性能指标
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指标名称 |
型号及标准 |
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CMP30 |
CMP50 |
CMP80 |
CMP100 |
CMP150 |
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粒径（nm） |
20-40 |
40-60 |
60-90 |
100-130 |
140-170 |
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外观 |
乳白 |
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SiO2含量(重量) |
30~40% |
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分散介质 |
水 |
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PH值 |
2-11可调 |
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保质期（月） |
≥12 |
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四、使用方法
1.可根据抛光操作条件用去离子水进行5-20倍稀释。
2.稀释后，粗抛时调节pＨ至11左右，精抛时调节pH至9.5左右。pH调节可以用10%的盐酸、醋酸、柠檬酸、KOH或氨水在充分搅拌下慢慢加入。
3.循环抛光可以用原液。
五、包装及储存
1．采用聚乙烯塑料桶包装，主要包装规格有25Kg、250Kg。
2．贮存时应避免曝晒，贮存温度为0-40℃。
3．避免敞口长期与空气接触。