CMP抛光液

2014-01-15 08:23  山东百特新材料有限公司   132次浏览

价　格： 面议

 CMP抛光液

 

一、应用领域

    用于单晶硅、多晶硅、蓝宝石、液晶玻璃、镜头等抛光。

二、产品特点

    1．采用严格的粒径控制工艺，具有纯度高、粒径均匀、易清洗、无橘皮、无雾化现象、抛光速率高、损伤层小等优点。

    2．可直接稀释使用，对抛光设备无腐蚀。

三、性能指标

指标名称	型号及标准
	CMP30	CMP50	CMP80	CMP100	CMP150
粒径（nm）	20-40	40-60	60-90	100-130	140-170
外观	乳白
SiO2含量(重量)	30~40%
分散介质	水
PH值	2-11可调
保质期（月）	≥12

四、使用方法

    1.可根据抛光操作条件用去离子水进行5-20倍稀释。

    2.稀释后，粗抛时调节pＨ至11左右，精抛时调节pH至9.5左右。pH调节可以用10%的盐酸、醋酸、柠檬酸、KOH或氨水在充分搅拌下慢慢加入。

    3.循环抛光可以用原液。

五、包装及储存

    1．采用聚乙烯塑料桶包装，主要包装规格有25Kg、250Kg。

    2．贮存时应避免曝晒，贮存温度为0-40℃。

    3．避免敞口长期与空气接触。

 

公司：山东百特新材料有限公司
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